內地據報開始生產自主研發DUV光刻機

美國科技傳媒The Information報道，中國已開始生產自主研發，用以製造高階晶片的深紫外光(DUV)光刻機，報道引述知情人士指，初期產量有限，今年可生產約5部DUV光刻機，預計今年交付給包括中芯國際、華虹宏力和長鑫存儲在內的內地領先晶片製造商，到明年產量可增至約20部。

由於事關敏感，知情人士並未透露這間具國有背景的上海製造商身份，但這間公司已從上海宇量昇科技等其他內地企業抽調人員，組建研發團隊。

在美國目前考慮對外國光刻設備出口和在中國維修服務，實施更嚴格限制之下，今次的生產突破將有望打破荷蘭供應商ASML長期以來的主導地位，但雙方系統在性能和可靠度方面或存在差距，在實現量產前仍需要進一步測試。

ASML拒絕回應報道，公司股價跌超過7%，創下自6月初以來最大單日跌幅，同時亦拖累全球晶片設備供應鏈相關的公司股價。中國目前亦在研發國產的極紫外光(EUV)光刻機，但目前仍處於原型階段。