内地据报开始生产自主研发DUV光刻机

美国科技传媒The Information报道，中国已开始生产自主研发，用以制造高阶芯片的深紫外光(DUV)光刻机，报道引述知情人士指，初期产量有限，今年可生产约5部DUV光刻机，预计今年交付给包括中芯国际、华虹宏力和长鑫存储在内的内地领先芯片制造商，到明年产量可增至约20部。

由于事关敏感，知情人士并未透露这间具国有背景的上海制造商身份，但这间公司已从上海宇量升科技等其他内地企业抽调人员，组建研发团队。

在美国目前考虑对外国光刻设备出口和在中国维修服务，实施更严格限制之下，今次的生产突破将有望打破荷兰供应商ASML长期以来的主导地位，但双方系统在性能和可靠度方面或存在差距，在实现量产前仍需要进一步测试。

ASML拒绝回应报道，公司股价跌超过7%，创下自6月初以来最大单日跌幅，同时亦拖累全球芯片设备供应链相关的公司股价。中国目前亦在研发国产的极紫外光(EUV)光刻机，但目前仍处于原型阶段。